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第626章 路要一步一步的走

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第626章 路要一步一步的走(1/3)

听了自己岳父的感慨,李晓峰也很是感慨,语气淡淡的说:“自古以来,人性都是相通的,历史也都在一遍一遍的重演,只不过是换了一个形式而已。

目前咱们华夏已经慢慢开始出现阶层固化了,底层人的上升通道也正在逐渐的关闭,咱们自己也需要一些外部的刺激,以及底层的呼声,来倒逼上面做出一些改变了。”

李书记摆了摆手,叹了一口气说:“不说这些虚无缥缈的事情了,还是多说说眼前的事情吧,听说你这边的光刻机技术和芯片技术,又取得了突破性的进展?”

“在光刻机方向上,已经完成了干式duv光刻机的研发,正在向湿式duv光刻机的方向前进。

如果能研发成功湿式duv光刻机的话,就可以投入大规模量产了,不但可以给咱们国内的芯片厂家使用,而且还可以向海外出口,把光刻机打成白菜价!”

李书记微笑着说:“要是咱们的国产光刻机都能出口的话,那感情好,挣多少钱倒是其次,主要是打破了西方在高科技行业的垄断地位。”

“是啊,至少可以出一口恶气,凭什么他们说封锁就封锁,说制裁就制裁的!”

李晓峰跟着吐槽一句之后,继续说:“至于在芯片制程领域,我们这边马上就要突破了14纳米了,而且28纳米的制程工艺也已经开始量产了。

虽然目前比国际上的那些芯片大厂还落后很多,但只要再给我们几年时间,我们一定可以把制程工艺水平追上来的。”

“目前国外的芯片制程工艺水平已经到什么段位了?”

“现在他们已经实现了7纳米制程工艺的量产,工艺水平正在向5纳米和3纳米等更先进的工艺水平突破。”

李书记点了点头,满脸兴奋的说:“这么说的话,咱们真的很快就要追上他们了?”

李晓峰摇了摇头,苦笑着说:“没那么容易,巧妇难为无米之炊,即便是我们的制程工艺水平提升上来了,但我们没有euv光刻机,也是不行的。

如果通过多重曝光,外加小封装和芯片堆叠技术,也许可以勉强到达7纳米的芯片性能,但想要更进一步的话,那可就难上加难了。

另外,多重曝光技术会让芯片的良品率大


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