第290章 光刻胶研发取得重大进展(1/3)

省里500亿半导体创新中心项目正式启动的第一周，李一凡就召集了一次专门会议。与会的除了市里各部门负责人，还有中微公司和南大光电的技术团队。

“这个项目意义重大。”李一凡环视会议室，“省里把重点放在星城上，是看中了我们在半导体领域的技术积累和产业基础。现在的关键是如何把今晚的资金用在刀刃上。”

陈启明领导接过话题：“根据省里的规划，这500亿将分三年启动。第一年200亿，重点是基础设施建设和重点项目落地；第二年200亿，重点技术攻关和产业培育；第三年100亿，完善装备和产业升级。”

“我们市里的100亿配套资金一定要安排。”李一凡说，“要重点支持两个方向：一是南大光电的光刻胶项目，二是中微公司的技术创新。这两个领域都关系到产业安全。”

正说着，南大光电技术总监王立新递上一份最新的测试报告：“我们在对中微28n光刻机项目的光刻胶研发上取得了重要进展。最新一代产品在分辨率、感光性和稳定性等关键指标上都有突破。”

“详细讲述。”李一凡立即产生了兴趣。

“主要是三项技术创新。”王立新打开投影，“一是配方优化，提高了光刻胶的感光性能，实现了28n制程要求的精度；二是工艺密封，将在ppb级别进行缓慢控制，这对良率提升很关键；三是添加剂创新，大幅提升了抗干扰能力。”

“第三点特别重要。”中微公司董事长尹志绕表示，“威廉姆斯团队正在推进28n光刻机的研发，他们特别关注芯片安全架构。这种新型光刻胶的抗干扰特性，恰好能够契合我们在安全防护方面的设计。”

李一凡点点头：“这就是我们的优势。光刻机和光刻胶两个团队能紧密配合，良好创新。这也是省里500亿投资的重点支持方向。”

“关于光刻胶项目的具体落地。”市发改委主任刘向力说，“南大光电计划投资50亿建设研发中心和生产基地，我们已经在半导体产业园建设了200亩核心用地。”

“时间节点要和中微的细节匹配。”李一凡说，“威廉姆斯博士计划用两年时间完成28n光刻机的研发和量产，我们的光刻胶必须同步化。”