第217章 文件生效，徐铭的大胆设想(4/5)

究院这边，因此对李由口中的大新闻不清楚。

李由闻言并未立刻解释，而是在旁边的电脑上，打开相关报导让徐铭查看。

见此徐铭也没耽搁，直接坐下浏览起来。

待将海外发布的文件核心内容，以及各方面的回应评论看完之后，他心底里的情绪虽不怎么平静，却也不至于产生很大波动。

毕竟这一天迟早会来。

「动作真快啊！」

深吸一口气轻声低喃一句，大脑却是在飞速运转。

其实早在燕京奥运会的那一年，国内便已经开始系统性布局高端半导体设备O

发布的中长期科学和技术发展规划纲要，确定的十几个重大科技专项中，极大规模集成电路制造技术及成套工艺排在首位，正式把晶片制造技术提升到战略级，提供持续和巨额的经费支持。

布局采用产学研用」结合的模式，系统性发展整个晶片制造产业链。

光刻机为最关键，最难攻克的环节。

截至目前，魔都微电子装备集团公司，作为国产光刻机研发的绝对主力军，能稳定交付的先进光刻机，为90纳米工艺水平。

相比海外最先进的，14纳米以及10纳米浸没式光刻机要落后很多。

因此海外这份文件的签署，确实会带来很大影响。

难怪连王者坤和唐亚愚教授他们，都被紧急喊到科学院总部参加会议。

而就当他想到这些时，脑海中却又浮现出，针对拓扑光子—等离激元耦合态理论的新想法。

且越来越强烈。

「以等离激元耦合态的性质，如果能将输入雷射的波长通过精确调控在某个近红外波段，或许产生的二次辐射的波长，能够在13.5nm的极紫外窗口附近。」

这是他前几天推导公式时，猛然意识到的一项设想。

如果能够实现的话，便相当于找到了，全新方式的极紫外光源。

本来今天正是想你两位教授，讨论极紫外光源的可行性及应用方向，在得知目前高产光刻机的研发，要尽快加速早日提上日程之后，顿时便想到将其作为光刻机光源。

随著疲个念头在脑海中挥之不去，他再也亨不住。

迫切想进行讨论研究。

思维运转至此，他猛地站起身看向李由，毫不迟疑的向其询问一句。

「杨老今天在科技馆办公室吗？」

「应该在吧，没听说杨老去科学院参会。」李由想了想开口回答。

徐铭听到疲句话，可以说没有任何迟疑，当即转身朝外面走去，准备前往