第138章 震惊的国际友人，是真的，都是真的！(2/3)

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更关键的是——这些芯片已随Nova青春版Pro公开发售。

虽主SoC仍采用高通方案，但电源管理IC、快充控制器、NAND闪存主控等12颗核心配套芯片，全部采用该38nm产线制造。

包装盒底部新增一行银色小字：

“关键芯片国产38nm工艺，自主可控。”

……

……

美国加州，圣克拉拉，TechInsights总部。

深夜十一点，拆解实验室灯火通明。

詹姆斯·米勒——资深首席分析工程师，叼着半截冷掉的咖啡吸管，把Nova青春版Pro的主板扔到工作台上，语气满是讥诮：“又一个‘中国奇迹’？”

“上帝，我真是服了！”另外一个工程师瑞安无奈的开口道：“我们这么晚了，到底在干什么，省省吧。上回汉芯用砂纸磨摩托罗拉芯片，这次怕不是拿台积电废片重新打标。”

他身旁，华裔工程师林哲，正调试电子束显微镜，闻言嗤笑一声：“我老家在苏州，从小听‘国产突破’听到耳朵起茧。结果呢？连个像样的示波器都造不好。38nm？别逗了，他们能稳定做出130nm就烧高香了。”

“就是！”

瑞安插嘴，“ASMLCEO都说中国人连193nm光源都没有，光刻机？怕是PPT造的吧！”

林哲沉默了一下。

感觉有些不舒服。

但是，想想也无可厚非。

国内的大环境的确是这样的。

米勒耸耸肩，戴上防静电手套：“行吧，按流程走一遍。反正客户付了加急费，咱们就当看个笑话。”

他熟练地剥离封装，取出那颗标注“PMIC-HD38”的电源管理芯片，放入聚焦离子束设备。

“先切个横截面，看看是不是多重曝光拼的……”

屏幕亮起，纳米级剖面图像缓缓生成。

起初，米勒还漫不经心地敲着桌面。

可三分钟后，他动作僵住了。

“这……这不对……”他凑近屏幕，瞳孔骤缩。

林哲察觉异样，走过来瞥了一眼，笑容瞬间凝固。

屏幕上，多层铜互连结构清晰如画，介电层均匀致密，栅极侧墙轮廓锐利如刀锋——这绝非65nm或90nm工艺能伪造的细节。

“液膜边缘效应……”

林哲声音发颤，“这是浸没式光刻独有的特征！水浸界面导致的折射畸变……只有真实曝光才会留下这种痕迹！”

米勒猛地调出线宽测量工具。

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