第129章 开启光刻之路(1/3)

1985年，阳光暖暖地洒在首都燕京的大地上，微风轻拂，带着一丝希望与未知的气息。

机械厂vcd的研发并出口海外获得成功，研发的资金已有，贾东旭每天都在思考如何利用系统的奖励，为国家和社会做出一番大事业。在那个电子产业飞速发展的时代，半导体技术成为了各国竞争的焦点，而光刻机作为半导体制造的核心设备，其重要性不言而喻。贾东旭敏锐地意识到，利用系统奖励的技术提前研发中国光刻机，将是一个极具战略意义的计划，不仅能填补国内在这一领域的空白，还能让中国在半导体产业中占据一席之地。

“干！就搞光刻机！”贾东旭在心中暗暗下定决心。

一、技术路线选择

要研发光刻机，首先面临的就是技术路线的选择。在当时，光刻技术主要有接触式光刻和步进式光刻两种，接触式光刻技术相对简单，但精度较低，已经逐渐无法满足半导体产业不断提高的精度需求；而步进式光刻技术则代表着未来的发展方向，虽然技术难度大，但分辨率更高，能够满足大规模集成电路制造的要求。

贾东旭看着系统提供的技术资料，心中有了明确的目标：跳过接触式光刻，直接研发步进式光刻机（stepper）。这个决定在当时看来是相当大胆的，毕竟国内在光刻技术方面的研究还处于起步阶段，直接挑战高难度的步进式光刻技术，无疑是一场艰难的冒险。但贾东旭相信，凭借系统提供的先进技术和自己的努力，一定能够克服重重困难。

1技术定位

-目标：跳过接触式光刻，直接研发步进式光刻机（stepper）；

-技术参数：

-分辨率：15μ（同期日本尼康为12μ）；

-产能：60片\/小时（8英寸晶圆）；

-光源：汞灯g线（436n）。

确定了目标后，贾东旭开始仔细研究各项技术参数。分辨率15μ，虽然比不上同期日本尼康的12μ，但在国内已经是一个巨大的突破，而且随着技术的不断发展，还有很大的提升空间；产能60片\/小时，对于初步研发的光刻机来说，也算是一个比较可观的数字；光源选择汞灯g线，这是当时比较成熟