第129章 开启光刻之路(3/3)

。基于处理器的运动控制算法，能够快速准确地控制气浮工作台的运动，保证晶圆在光刻过程中的位置精度。自动对准系统则能够实现晶圆与掩膜版的自动对准，overy精度达到了±01μ，大大提高了光刻的效率和精度。

“这些技术真是太强大了！”贾东旭感叹道，“有了系统的支持，我们离成功又近了一步。”